汇成真空：公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在TGV深孔沉积领域具有高离化率等优势和特点

ceshi阅读：2025-08-19 21:57:17

　　证券日报网讯汇成真空8月19日在互动平台回答投资者提问时表示，公司HiPIMS高功率脉冲磁控溅射设备在**V深孔沉积领域具有高离化率、低占空比控制、成膜致密均匀等优势和特点，详情请关注公司定期报告。

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