2024 年 8 月 21 日消息，天眼查知识产权信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种湿法刻蚀系统及湿法刻蚀终点判断方法“，公开号 CN202310126912.2，申请日期为 2023 年 2 月。
专利摘要显示，本发明提供一种湿法刻蚀系统及湿法刻蚀终点判断方法，该湿法刻蚀系统包括循环模块、晶圆处理系统、中央控制系统及厂务系统，其中，循环模块包括循环槽及设有离子浓度检测装置和循环泵的第一管路；晶圆处理系统包括设有温度检测装置的晶圆处理单元及储液槽，晶圆处理单元通过第二、三管路分别与循环槽及储液槽连通，第二管路上设有温度控制器及第一副产物检测装置，第三管路上设有第二副产物检测装置；中央控制系统实时收集并处理各模块及系统的反馈信息，基于处理结果发出相应控制指令，厂务系统用于配制刻蚀剂及补液。本发明通过离子浓度检测装置及第一、二副产物检测装置与中央控制系统和厂务系统的结合，保证刻蚀的品质，且刻蚀终点判断方便。
