华懋科技取得可重复加药的祛疤贴相关专利,能够形成可供药物穿过的微孔结构,同时又具备祛疤贴的使用效果

2024-09-01 新闻资讯 万阅读 投稿:admin

2024年9月1日消息,天眼查知识产权信息显示,华懋(厦门)新材料科技股份有限公司取得一项名为“一种可重复加药的祛疤贴的制备方法、使用方法及祛疤贴“,授权公告号CN115969817B,申请日期为2022年10月。

专利摘要显示,本发明公开了一种可重复加药的祛疤贴的制备方法、使用方法及祛疤贴,包括:步骤一,A片改性:在液态的A片硅胶中加入小分子添加剂,对液态的A片硅胶进行改性,使之交联后具有微孔结构;步骤二,A片成型:将步骤一中的带有粘性的液态医用有机硅胶涂覆在一离型膜上,进行烘干交联处理,得到A片;步骤三,制作B片;将不带粘性的硅胶与带有粘性的硅胶加热交联固化,使其复合在一起,得到具有单面粘性的双层B片;步骤四,裁切定型;将双面均贴有离型膜的A片与B片裁切成相同大小,检验合格后打包出厂,能够形成可供药物穿过的微孔结构,同时又具备祛疤贴的使用效果。

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